特許

J-GLOBAL ID：200903018257458042

フォトレジスト

発明者： 李 東 基 ,  李 羲 国
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (2件)： 小野 由己男 ,  稲積 朋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-029746
公開番号（公開出願番号）：特開2006-221175
出願日： 2006年02月07日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】残膜率を維持すると同時に解像度及び感度が優れたフォトレジストを提供する。【解決手段】メタクレゾールから合成されるノボラック樹脂で、平均分子量が8000〜25000であり、分散度は4以下であるアルカリ可溶性樹脂、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドー5-スルホン酸塩に代表される光感応剤及び溶剤を含むホトレジスト。アルカリ可溶性樹脂における該ノボラック樹脂の含有量は5〜30重量%である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

メタクレゾールから合成され、平均分子量が8000〜25000である第1ノボラック樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、光感応剤及び溶剤を含むフォトレジスト。

IPC (3件)：

G03F 7/023 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/022

FI (3件)：

G03F7/023 511 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/022 601

Fターム (10件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17