特許
J-GLOBAL ID:200903018267331695

活性エネルギー線硬化性化合物及び組成物

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-257167
公開番号(公開出願番号):特開平7-109434
出願日: 1993年10月14日
公開日(公表日): 1995年04月25日
要約:
【要約】【目的】 電子材料分野において耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性などが必要とされるソルダーレジスト、めっきレジスト及び、ビルドアップ工法における層間絶縁材料等の永久保護膜として使用可能なレジストインキ組成物を提供する。【構成】(A)一分子中に2個以上のラジカル重合性基及び2個以上のアミノ基を有する活性エネルギー線硬化性化合物、(B)光重合開始剤、及び、(C)反応性及び/または非反応性の希釈剤を必須成分とし、酸水溶液により現像可能な永久保護膜用レジストインキ組成物。
請求項(抜粋):
(A)一分子中に2個以上のラジカル重合性基及び2個以上のアミノ基を有する活性エネルギー線硬化性化合物、(B)光重合開始剤、及び、(C)反応性及び/または非反応性の希釈剤を必須成分とし、酸水溶液により現像可能な永久保護膜用レジストインキ組成物。
IPC (4件):
C09D 11/10 PTR ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028

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