特許
J-GLOBAL ID：200903018269208122
ガス吸・脱着処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-109944
公開番号（公開出願番号）：特開平10-305208
出願日： 1989年03月15日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】【課題】 吸着体の吸着領域における吸着性能を向上すると共に、脱着排ガス中の所定成分濃度を高め、効率的なガス吸・脱着処理を行なうことのできる装置を提供することを目的とする。【解決手段】 吸着領域,再生領域を巡回する円筒状又は円柱状の吸着体を備えた回転式ガス吸・脱着処理装置であり、再生領域12と吸着領域11の間に冷却領域20が設けられている。冷却領域20のガス排出側が再生領域12のガス導入側に接続されている。吸着体がハニカム状である。
請求項（抜粋）：
吸着領域,再生領域を巡回する円筒状又は円柱状の吸着体を備えた回転式ガス吸・脱着処理装置において、前記再生領域と前記吸着領域の間に冷却領域が設けられ、該冷却領域のガス排出側が前記再生領域のガス導入側に接続され、且つ前記吸着体がハニカム状であることを特徴とするガス吸・脱着処理装置。
引用特許：
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