特許

J-GLOBAL ID：200903018300140647

露光用マスクの製造方法及びその装置

発明者： 平岡 隆
出願人/特許権者： 株式会社写真化学
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-322246
公開番号（公開出願番号）：特開平7-005678
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】 本考案は、露光用マスク本体に防塵用の薄膜体を貼着刷る際に、マスク本体のパターン層における異物の検査においては、検査中に異物がパターン層に付着するのを防止するとともに、薄膜体をマスク本体に取り付ける際に、パターン層に異物が付着するのを防止でき、しかも異物の混入のため一旦付着した薄膜体を剥がす必要がなく作業が容易で、且つ迅速に行うことができ、しかも経済的な露光用マスクの製造方法及びその装置を提供することを目的とする。【構成】そして、その構成上の要旨は、マスク本体2を支持し、その後に薄膜体7をその貼着部がマスク本体2と隙間を有するように保持し、その状態でマスク本体2の上面の異物の有無の検査を行い、異物が無い場合に、薄膜体7をマスク本体2に貼着することにある。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ工程等によりパターン層2aをマスク本体2に形成した後に、パターン層2aを塵埃等の異物より保護するための薄膜体7をマスク本体2のパターン層2a側に貼着する露光用マスクの製造方法において、前記マスク本体2を支持し、その後に薄膜体7をその貼着部がマスク本体2と隙間を有するように保持し、その状態でマスク本体2の上面の異物の有無の検査を行い、異物の無い場合に、薄膜体7をマスク本体2に貼着することを特徴とする露光用マスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-071852
  
• 特開昭59-193457