特許

J-GLOBAL ID：200903018304131731

MOCVD用気化器及び原料溶液の気化方法

発明者： 都田 昌之 ,  楠原 昌樹 ,  土井 幹夫 ,  梅田 優 ,  深川 満 ,  菅野 洋一 ,  内澤 修 ,  山本 康平 ,  目黒 俊勝
出願人/特許権者： 株式会社渡邊商行 ,  都田 昌之 ,  株式会社本山製作所
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014970
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216150
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 原料溶液が均一に分散した気化ガスを得ることができるMOCVD用気化器及び原料溶液の気化方法を提供すること。【解決手段】?@ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、ガス通路に原料溶液5aを供給する手段と、原料溶液含有キャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、を有する分散部8と、?A一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前ガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するための加熱手段と、を有し、分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、を有し、?B分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、ロッド10の外周の気化器22側に螺旋状の溝60を有し、ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。

請求項（抜粋）：

?@内部に形成されたガス通路と、該ガス通路に加圧されたキャリアガスを導入するためのガス導入口と、該ガス通路に原料溶液を供給するための手段と、原料溶液を含むキャリアガスを気化部に送るためのガス出口と、該ガス通路を冷却するための手段と、を有する分散部と;?A一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前記ガス出口に接続された気化管と、該気化管を加熱するための加熱手段と、を有し、前記分散部から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部と;を有することを特徴とするMOCVD用気化器。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (2件)：

H01L 21/31 B ,  H01L 27/10 651

Fターム (13件)：

5F045AA04 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045DC63 ,  5F045EE03 ,  5F045EE04 ,  5F045EE05 ,  5F045EE10 ,  5F083FR02 ,  5F083JA17 ,  5F083PR21

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 有機液媒質に分散された微粉粒子状強誘電 体のコロイド溶液の質量流量制御と気化
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-315396   出願人：株式会社リンテック