特許

J-GLOBAL ID：200903018327542208

周期性開口パターンの検査方法及び装置

発明者： 西田 真史 ,  牛草 昌人 ,  添田 正彦 ,  岡沢 敦司
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027176
公開番号（公開出願番号）：特開平11-230722
出願日： 1998年02月09日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 面光源から試料の裏面を照明した際の透過光に基づいて、該試料に貫通形成されている周期性開口のパターンを検査する際、検査精度を向上する。【解決手段】 面光源14からシャドウマスク(試料)SMの裏面を照射した際の透過光に基づいて、該シャドウマスクに貫通形成されている周期性開口のパターンを検査する検査装置において、前記シャドウマスクの裏面への照明光が該裏面で反射されて、前記面光源14側へ戻る裏面反射光BRを除去するガラス板24が、前記面光源14とシャドウマスクSMとの間に配設された構成とする。

請求項（抜粋）：

面光源から試料の裏面を照射した際の透過光に基づいて、該試料に貫通形成されている周期性開口のパターンを検査する周期性開口パターンの検査方法において、前記試料裏面への照明光が該裏面で反射されて、前記面光源側へ戻る裏面反射光を除去することを特徴とする周期性開口パターンの検査方法。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01M 11/00 ,  H04N 7/18

FI (3件)：

G01B 11/24 F ,  G01M 11/00 Z ,  H04N 7/18 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-014440
  
• 特開平1-313742