特許

J-GLOBAL ID：200903018329744410

細胞培養基材及びその製造方法

発明者： 上野 光一
出願人/特許権者： ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー-コーン
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079143
公開番号（公開出願番号）：特開平7-031464
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【目的】細胞の接着、増殖面積を規制することができ、所望の細胞数からなるスフェロイドを容易に形成することができる細胞培養基材と、その簡便かつ経済的な製造方法を提供すること。【構成】LCSTを有する温度感応性高分子化合物と細胞接着性物質からなる細胞培養基材において、その基材がほぼ平な面と、その平面に対し45 ゚以上135°以下の角度で立ち上がったエッジを有することを特徴とする細胞培養基材と、二段階からなるその製造方法。

請求項（抜粋）：

LCSTを有する温度感応性高分子化合物と細胞接着性物質からなる細胞培養基材において、その基材がほぼ平な面と、その平面に対し45 ゚以上135°以下の角度で立ち上がったエッジを有することを特徴とする細胞培養基材。