特許

J-GLOBAL ID：200903018331062377

信号波形補正良否判別方法および信号波形補正方法並びにこれらの方法を用いた半導体製造装置

発明者： 林 望
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-167717
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357405
出願日： 2001年06月04日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 照度むらや感度むらが局所的に生じた変化であっても数値的に調べ補正する方法である位置検出方法を提供する。【解決手段】 投影光学系の光軸と交差する平面上を2次元方向に移動可能であり、アライメントマークの刻まれているステージに対して、ステージの位置を測定可能なステージ位置測定工程(ステップ104)と、アライメントマークを撮像可能な画像情報入力工程(ステップ102)と、予め作成しておいた補正式により入力された画像情報の補正を行う画像補正工程(ステップ102)とを備え、ステージを計測方向にステップ移動させながら、アライメントマークの位置変化量の計測とステージの移動量の計測を所定の範囲で行い、該各計測値からアライメントマークの位置変化量とステージの移動量の線形性を調べ(ステップ107)、その線形残差から補正式による補正の良否を判別(ステップ108)する。

請求項（抜粋）：

投影光学系の光軸と交差する平面上を2次元方向に移動可能であり、アライメントマークの刻まれているステージに対して、前記ステージの位置を測定可能なステージ位置測定工程と、前記アライメントマークを撮像可能な画像情報入力工程と、予め作成しておいた補正式により入力された画像情報の補正を行う画像補正工程とを備えた信号波形補正良否判別方法において、前記ステージを計測方向にステップ移動させながら、前記アライメントマークの位置変化量の計測と前記ステージの移動量の計測を所定の範囲で行い、該各計測値から前記アライメントマークの位置変化量と前記ステージの移動量の線形性を調べ、その線形残差から前記補正式による補正の良否を判別することを特徴とする信号波形補正良否判別方法。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

G01B 11/00 C ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (31件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA09 ,  2F065AA14 ,  2F065BB01 ,  2F065CC20 ,  2F065EE04 ,  2F065EE10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065HH13 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL04 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065NN17 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065RR06 ,  2F065UU05 ,  5F031JA38 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F046CC15 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05