特許
J-GLOBAL ID：200903018335552794
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-001178
公開番号（公開出願番号）：特開平10-197462
出願日： 1997年01月08日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 高速で、高感度な欠陥検出性能を維持しながら、MCPの寿命を飛躍的に向上させた検出器を用いたパターン検査装置を提供することにある。【解決手段】 電子検出手段5は、前記試料からの二次電子、反射電子及び後方散乱電子の少なくとも1つを倍増させるMCPと、該MCP受像部には、該MCPから倍増された電子群を光変換する蛍光部と該蛍光部から励起された光が照射されるTDIアレイCCDとを有し、前記位置検出手段からの前記電子ビーム照射面の位置信号に応じて前記TDIアレイCCDを駆動制御する制御手段8を備えた構成とした。
請求項（抜粋）：
試料面上に電子ビームを照射する照射手段と、前記試料を前記電子ビーム照射面に移動するX-Yステージと、該X-Yステージの位置を検出する位置検出手段と、前記電子ビームにより照射された試料面からの二次電子、反射電子及び後方散乱電子のうち少なくとも1つを検出する電子検出手段とを有する試料面上のパターンを検査するパターン検査装置であって、前記電子検出手段は、前記試料からの二次電子、反射電子及び後方散乱電子の少なくとも1つを倍増させるMCPと、該MCP受像部には、該MCPから倍増された電子群を光変換する蛍光部と該蛍光部から励起された光が照射されるTDIアレイCCDと、前記位置検出手段からの前記電子ビーム照射面の位置信号に応じて前記TDIアレイCCDを駆動制御する制御手段とを有し、前記電子ビーム照射手段からの照射ビーム面を前記X-Yステージ上に載置された試料面上の所定の位置に静止させた状態で、前記位置検出手段からの出力信号に基づいて前記X-Yステージを連続的に移動させながら試料面上のパターンを検査することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01N 23/223
, G01B 15/00
, H01L 21/66
G01N 23/223
, G01B 15/00 B
, H01L 21/66 J
