特許
J-GLOBAL ID:200903018336656593

局部シールド水中レーザ光照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-247437
公開番号(公開出願番号):特開平10-085982
出願日: 1996年09月19日
公開日(公表日): 1998年04月07日
要約:
【要約】【課題】水中環境下でのレーザ加工装置において、水排除と浸水防止をしつつ被照射表面の異物除去を可能とする。【解決手段】シールドガス導入とガス圧制御が可能な装置と、被照射表面の水排除および水浸入を防止するためのレーザ光照射筒に連なるシールドガス噴射ノズルの先端の外周に配置され、かつシールドガス噴射ノズル外側に末広がりの角度をつけ、互いに上下方向に摺動が可能な金属または非金属繊維状の細線と、その細線にシールドガス噴射ノズル内部で接続した羽根車を設け、シールドガス流量により羽根車を回転させ、その細線を回転させ、飛び出した細線が被照射表面に接触、および回転することによりノズルと被照射表面との隙間を遮断し、水排除と水浸入を防止する。
請求項(抜粋):
水中環境下でレーザ光を被照射表面に照射して加熱、溶融する局部シールド水中レーザ光照射装置において、シールドガス導入しそのガス圧制御が可能な装置と、レーザ光照射筒に連なりその表面の水排除および水浸入を防止するシールドガス噴射ノズルの先端外周を取り囲んで配置され、かつ前記シールドガス噴射ノズルの外側に末広がりに角度をつけ、互いに上下方向に摺動が可能な複数の繊維状の細線と、前記細線を回転させる回転装置とを備え、前記回転装置により前記細線が回転し、その回転により得られる遠心力によりその細線が常に被照射表面側に飛び出し、かつ接触することにより、被照射表面の凹凸の影響を受けずに常にシールドガス噴射ノズル直下の被照射表面の水排除および浸水防止することを特徴とする局部シールド水中レーザ光照射装置。
IPC (3件):
B23K 26/12 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/14
FI (3件):
B23K 26/12 ,  B23K 26/06 A ,  B23K 26/14 Z

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