半導体製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-211224
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025918
出願日： 2000年07月12日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置に於いて、ガス配管中のガスの充満状態を表示可能とし、メンテナンス作業等に於ける作業の安全性を向上する。【解決手段】ガス配管に設けられた開閉バルブの開閉状態と、前回検知されたガス配管中のガスの状態とに基づき配管のガスの状態を検知するガス状態検知手段15,30,31と、表示手段12とを有し、ガス配管中のガスの状態を表示手段に表示する様にした。

請求項（抜粋）：

ガス配管に設けられた開閉バルブの開閉状態と、前回検知されたガス配管中のガスの状態とに基づき配管のガスの状態を検知するガス状態検知手段と、表示手段とを有し、前記ガス状態検知手段により検知されたガス配管中のガスの状態を前記表示手段に表示する様にしたことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , C23C 14/52 , C23C 16/455 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/205 , C23C 14/52 , C23C 16/455 , H01L 21/302 B

Fターム (13件)：

4K029BD01 , 4K029DA04 , 4K029EA00 , 4K030EA01 , 4K030KA39 , 4K030LA15 , 5F004AA16 , 5F004BC03 , 5F004BC08 , 5F045BB20 , 5F045EE01 , 5F045GB06 , 5F045GB07

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平2-125421

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