特許
J-GLOBAL ID：200903018344470342
放射線シンチレータ装置およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216927
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042041
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 製造が容易で、分解能が向上した放射線シンチレータ装置およびその製造方法を提供すること。【解決手段】 放射線を可視光に変換する材料を基板面11に塗布して形成された柱状結晶21のシンチレータ層12と、このシンチレータ層12の柱状結晶21間に注入された光吸収材とを具備した放射線シンチレータ装置において、光吸収材が柱状結晶21間に気体状で拡散注入されて形成されている。
請求項（抜粋）：
放射線を可視光に変換する材料を基板面に塗布して形成した柱状結晶のシンチレータ層と、このシンチレータ層の前記柱状結晶間に注入した光吸収材とを具備した放射線シンチレータ装置において、前記光吸収材を、前記柱状結晶間に気体状で拡散注入して形成したことを特徴とする放射線シンチレータ装置。
Fターム (5件)：
2G088EE29
, 2G088FF02
, 2G088FF04
, 2G088GG09
, 2G088JJ37
