特許
J-GLOBAL ID：200903018356422700

反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法

発明者：
笑喜 勉

笑喜 勉 について

, 
細谷 守男

細谷 守男 について

, 
木下 健

木下 健 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-298691
公開番号（公開出願番号）：特開2004-104118
出願日： 2003年08月22日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】多層反射膜の応力の影響を緩和し、平坦度の高い反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法を提供する。【解決手段】基板11上に、露光光を反射する多層反射膜13を有し、該多層反射膜13上にバッファ層14と露光光を吸収する吸収体層15を有する反射型マスクブランク100の製造方法であって、基板11と多層反射膜13の間に、多層反射膜13の膜応力と逆向きで、多層反射膜13の膜応力の絶対値より小さい膜応力を有する応力補正膜12を形成する工程と、多層反射膜13及び応力補正膜12を加熱処理する工程とを有する。さらに、上記吸収体層15にパターンを形成することにより反射型マスク101を製造する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、露光光を反射する多層反射膜を形成し、該多層反射膜上に露光光を吸収する吸収体層を形成する反射型マスクブランクの製造方法であって、前記基板と多層反射膜の間、或いは、多層反射膜上、或いは、基板と多層反射膜の間及び多層反射膜上の両方に、多層反射膜の膜応力と逆向きで、多層反射膜の膜応力の絶対値より小さい膜応力を有する応力補正膜を形成する工程と、前記応力補正膜を加熱処理する工程と、前記多層反射膜を加熱処理する工程と、を有することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06
FI (5件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 521 ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 D
Fターム (5件)：
2H095BA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GD05 ,  5F046GD16
引用特許：
出願人引用 (7件)
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