特許

J-GLOBAL ID：200903018356857820

混合ガス供給装置

発明者： 西川 幸伸 ,  橋爪 吉則 ,  木村 孝子
出願人/特許権者： テイサン株式会社 ,  ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-107029
公開番号（公開出願番号）：特開平6-319972
出願日： 1993年05月07日
公開日（公表日）： 1994年11月22日
要約：

【要約】【目的】 複数の半導体製造装置に安定した濃度の混合ガスを一台の混合器で供給できる混合ガス供給装置を提供する。【構成】 シランガス等の半導体用ガス、又は、不活性ガスをミキシングチャンバー13に供給するシランガス等供給ライン5と不活性ガス供給ライン19とに、第1のMFC10と第2のMFC10Aとをそれぞれ配設する。また、ミキシングチャンバー13から供給されてくる混合ガスの圧力エネルギーを抑制・緩和して混合ガスを複数の半導体製造装置4にそれぞれ個別に供給するバッファタンク21を備える。そして、バッファタンク21に貯留された混合ガスの圧力値の増減に基づいて、第1のMFC10や第2のMFC10A等を開閉動作させ、シランガス等と不活性ガスの供給を停止、又は、再開する。

請求項（抜粋）：

ガスをそれぞれ個別に導送する複数のガス導送手段と、この複数のガス導送手段に導送されるガスをそれぞれ自動的に供給する複数の流量制御手段と、該複数のガス導送手段から供給されてくる複数のガスを混合して混合ガスを製造する混合手段と、この混合手段から供給されてくる混合ガスの圧力エネルギーを緩和して当該混合ガスを複数の消費手段に供給する緩衝手段とを備え、この緩衝手段に貯留された該混合ガスの圧力値の変化に基づいて複数の流量制御手段を開閉動作させ、該複数のガスの供給を停止、又は、再開することを特徴とする混合ガス供給装置。

IPC (3件)：

B01F 15/04 ,  B01F 3/02 ,  B01J 4/00 102

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭61-036453
  
• 特開昭61-008127
  
• 特開昭60-005222
  
• 特開昭51-115276