特許
J-GLOBAL ID:200903018356975580

X線評価装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柏木 明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-237704
公開番号(公開出願番号):特開平7-092112
出願日: 1993年09月24日
公開日(公表日): 1995年04月07日
要約:
【要約】【目的】 物質の表面構造を広範な計測法で評価でき、かつ、光軸に対する角度依存性をも評価し得るようにすること。【構成】 X線源4と、このX線源4からのX線を分光するX線分光器7と、試料8を保持するマニピュレータ9と、前記X線分光器7からのX線を前記試料8に対して入射させる入射角が相対的に可変自在で偏光面可変自在な軟X線用偏光子10と、前記試料8から出射されるX線を検出する二次元検出器13とを真空チャンバ2内に内蔵し、X線を真空中で取扱うようにした。
請求項(抜粋):
X線源と、このX線源からのX線を分光するX線分光器と、試料を保持するマニピュレータと、前記X線分光器からのX線を前記試料に対し入射させる入射角が相対的に可変自在で偏光面可変自在な軟X線用偏光子と、前記試料から出射されるX線を検出する二次元検出器と、これらのX線源とX線分光器と試料とマニピュレータと軟X線用偏光子と二次元検出器とを内蔵した真空チャンバとよりなることを特徴とするX線評価装置。

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