特許
J-GLOBAL ID：200903018357007854

過酸化水素製造用電極及びその製造方法

発明者：
大坂 武男

大坂 武男 について

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宇野 雅晴

宇野 雅晴 について

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錦 善則

錦 善則 について

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中松 秀司

中松 秀司 について


出願人/特許権者：
ペルメレック電極株式会社

ペルメレック電極株式会社 について


代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-056758
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256887
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 従来の電極を使用して酸素を還元して過酸化水素を製造しようとすると、生成した過酸化水素の一部が前記電極表面で更に還元されて過酸化水素の生成効率が低下する。【解決手段】 導電性基体に電極触媒を被覆して構成した陰極6の表面の少なくとも一部にイオウを被覆して陰極を修飾する。電極触媒を構成する金属の複数の結晶面のうち過酸化水素の更に還元する機能を有する面がイオウで被覆されて、過酸化水素を還元する能力が抑制され、その結果過酸化水素の生成効率が上昇する。
請求項（抜粋）：
表面に電極触媒を被覆した導電性基体の少なくとも一部をイオウで修飾したことを特徴とする過酸化水素製造用電極。
IPC (2件)：
C25B 1/30 ,  C25B 11/06
FI (2件)：
C25B 1/30 ,  C25B 11/06 Z
Fターム (14件)：
4K011AA04 ,  4K011AA23 ,  4K011AA68 ,  4K011AA69 ,  4K011DA01 ,  4K011DA11 ,  4K021AB15 ,  4K021BA01 ,  4K021DB05 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC15
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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