特許
J-GLOBAL ID：200903018357119059
露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
畑 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-391301
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158819
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 エッチングの条件が変更された場合に、マスクを作り直さずに密集パターンと孤立パターンの寸法の関係を補正することを可能にした露光方法を提供する。【解決手段】 密集パターンと孤立パターンとを有するマスクを用いて、レジスト形状の変化が生じないフォーカス範囲で多重焦点露光を行うことにより、密集パターンと孤立パターンの寸法を調整することを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
密集パターンと孤立パターンとを有するマスクを用いて、レジスト形状の変化が生じないフォーカス範囲で多重焦点露光を行うことにより、密集パターンと孤立パターンの寸法を調整することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514C
, G03F7/207 H
