特許
J-GLOBAL ID：200903018363589849

投影露光装置

発明者：
田中 康明

田中 康明 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292362
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134865
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の結像性能の変動を抑えると共に、露光用照明光の照射エネルギーのロスを抑える。【解決手段】 ArFエキシマレーザ光からなる照明光ILのもとで、レチクル1のパターンを投影光学系PLを介してウエハ2上に露光する投影露光装置において、投影光学系PLを構成するレンズ3a〜3n中のレンズ3bの表面側及び裏面側の両面にレンズ3bの両面を覆う密閉空間12,13を設け、その密閉空間12,13に温調装置7を介して温度制御された窒素ガスを供給する。レンズ3bの硝材としては、温度により屈折率が比較的変化し易い蛍石を選定し、レンズ3bの温度を変化させることにより屈折率を変化させて、投影光学系PLの結像特性を補正すると共に、ArFエキシマレーザ光の波長帯に対して吸収帯のない窒素ガスを使用することにより照射エネルギーのロスを抑える。
請求項（抜粋）：
所定の照明光のもとで、マスク上のパターンを投影光学系を介して感光性の基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系内の制御対象のレンズの周辺に前記照明光の波長に対する吸収帯のない温度制御された流体を供給する温度制御手段を設け、該温度制御手段を介して前記制御対象のレンズの温度を制御して、前記投影光学系の結像性能を制御することを特徴とする投影露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G02B 3/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
H01L 21/30 516 E ,  G02B 3/00 A ,  G02F 1/13 101 ,  G03B 27/72 ,  G03F 7/20 521
引用特許：
審査官引用 (10件)
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