特許

J-GLOBAL ID：200903018375298610

プラズマ処理装置

発明者： 土居 昭 ,  吉岡 健 ,  宮田 健治 ,  手束 勉 ,  池田 裕一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-144781
公開番号（公開出願番号）：特開平8-337887
出願日： 1995年06月12日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】本発明の第1の目的は、大口径の高密度プラズマを生成できる小型のマイクロ波プラズマ処理装置を提供することにある。本発明の第2の目的は、大口径プラズマの密度分布を均一化できる小型のマイクロ波プラズマ処理装置を提供することにある。【構成】本実施例のマイクロストリップアンテナ1は右回り円偏波を放射する小型のアンテナモジュールを3列×3行に配列して構成されている。アンテナモジュール18a,18b,18cに給電するマイクロ波のパワーをPa,Pb,Pcとすると、プラズマ密度を均一にするためにはPa<Pc<Pbとすれば良い。

請求項（抜粋）：

アンテナから放射したマイクロ波で生成したプラズマを用いて基板の表面処理を行うプラズマ処理装置において、前記アンテナは、右回り円偏波のマイクロ波を放射する複数のマイクロストリップアンテナを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

C23F 4/00 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

C23F 4/00 D ,  C23F 4/00 G ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 C ,  H01L 21/302 B