特許

J-GLOBAL ID：200903018389429246

処理室の密閉構造

発明者： 新山 喜三郎
出願人/特許権者： 東京化工機株式会社
代理人 (1件)： 合志 元延
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-297983
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112625
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 第1に、噴射された薬液の臭気,ガス等が外部に漏れず工場内の汚染が防止され、第2に、蓋部,窓部等の開閉が容易で作業性が向上し、第3に、大気汚染および空調エネルギーのロスが発生せず、コストも比較的かからず、処理能力の低下および薬液の損失もなくなる、処理室の密閉構造を提案する。【構成】 処理室1の開口部15は、常時は蓋部9又は窓部により閉鎖されている。そして開口部15の内側には、つば部8,蓋部9又は窓部,第1突壁10,第1弾性部11,第2突壁12,第2弾性部13等により空間20が形成されており、この空間20が、吸気装置そして真空導入管14にて、吸気,減圧,真空化される。もって、蓋部9又は窓部とつば部8間が間隔を存し密封され、処理室1は外部と遮断され密閉される。他方、吸気装置の切り換えにより真空導入管14を利用して空間20に給気すると、蓋部9又は窓部は容易に開放される。

請求項（抜粋）：

プリント配線基板の製造工程における処理室の密閉構造であって、搬送される該プリント配線基板に対し多数のスプレーノズルにより薬液が噴射される処理室と、該処理室に設けられた開口部の内部に固設されたつば部と、該つば部と間隔を存しより外側に配され該開口部を開閉可能な蓋部と、該蓋部から該つば部に向け周設された第1突壁と、該第1突壁の先端部および該つば部間に介裝された第1弾性部と、該第1突壁とは間隔を存し該つば部から該蓋部に向け周設された第2突壁と、該第2突壁の先端部および該蓋部間に介裝された第2弾性部と、該つば部,蓋部,第1突壁,第1弾性部,第2突壁,第2弾性部等にて形成される空間に開口する真空導入管と、該真空導入管に接続された吸気装置と、を有してなることを特徴とする処理室の密閉構造。

IPC (6件)：

H05K 3/00 ,  B01L 1/00 ,  B65D 53/02 ,  C23F 1/08 101 ,  G03F 7/30 501 ,  H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭50-127573
  
• 特開昭60-119784
  
• 特開昭59-062775
  
• 特開昭64-013499