パターン欠陥検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296448
公開番号（公開出願番号）：特開平8-152413
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：

【要約】【目的】被検査画像を区画に分割して標準パターン画像中の複数の参照画像と比較するプリント基板検査装置において、被検査画像の位置ずれの影響を防止すること。【構成】被検査画像Iの位置ずれの最大値に対して、各被検査区画SCij内における位置ずれが1画素相当以下となるように被検査区画のそれぞれのサイズKを設定する。また、対応する被検査区画SCijからの複数の参照画像Ri+m,j+nの最大偏位量Mを、被検査画像の位置ずれの最大値以上とする。【効果】被検査画像全体の位置ずれが被検査区画内での傾きや歪みとして現れず、また、被検査区画の画像に整合するものが複数の参照画像の中に含まれているため、比較検査が正確となる。

請求項（抜粋）：

被検査画像と標準パターン画像とを前記被検査画像の被検査区画ごとに比較することによって、前記被検査画像に含まれるパターン欠陥を検出する装置であって、(a)前記標準パターン画像から、前記被検査区画に相当する部分と、当該部分を画素単位で偏位させた部分とを抽出することによって、前記被検査区画の画像と比較すべき複数の参照画像を得る参照画像抽出手段と、(b)各参照画像と前記被検査区画の被検査画像とを比較し、当該比較結果に応じてパターン欠陥の検査結果信号を発生する検査結果信号発生手段と、を備え、前記被検査画像全体の位置ずれの最大値に対して、各被検査区画内における位置ずれが1画素相当以下となるように前記被検査区画のそれぞれのサイズが設定され、かつ、前記被検査区画からの前記参照画像の最大偏位量は、前記被検査画像全体の位置ずれの最大値以上に設定されていることを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/24 , G01B 11/30 , G06T 7/00

FI (2件)：

G06F 15/62 405 A , G06F 15/70 330 P

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