特許
J-GLOBAL ID:200903018400327396

光結合回路及び光結合回路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-220095
公開番号(公開出願番号):特開平5-060936
出願日: 1991年08月30日
公開日(公表日): 1993年03月12日
要約:
【要約】【目的】 簡易な方法により出射ビームサイズを拡大して光軸整合時の寸法精度を緩和する。【構成】 単一モード光ファイバからの出射ビームがファイバ固有の光ビームサイズよりも大きく拡大されてファイバ同士との結合を行う光結合回路及び光結合回路の製造方法において、単一モード光ファイバ11の外周に均一で所定の厚さの金属薄膜層13を所定の長さに渡って形成し、そのファイバ11の先端近傍において所定の長さに渡って所定の時間金属薄膜層13へヒータ供給電源15により通電し、真空または不活性ガス中にて部分的に高温加熱処理し、高温加熱処理が施されたた光ファイバ11の端面同士を結合させて光結合回路を構成する。
請求項(抜粋):
単一モード光ファイバからの出射ビームが該ファイバ固有の光ビームサイズよりも大きく拡大されたファイバ同士との結合を行う光結合回路において、前記単一モード光ファイバの外周に均一で所定の厚さの金属薄膜層が所定の長さに渡って形成され、該金属薄膜層に所定時間通電して部分的に高温加熱処理が施されることで前記ファイバの光ビームサイズが拡大され、該光ファイバの端面同士が結合されたことを特徴とする光結合回路。
IPC (2件):
G02B 6/26 ,  G02B 6/10

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