特許

J-GLOBAL ID：200903018411628150

レーザー機械加工システムにおける焦点の位置を決定するための装置

発明者： ルース, スヴェン-オロヴ ,  トルステンソン, ペル-アルネ
出願人/特許権者： ペルマノヴァ・レーザーシステム・エービー
代理人 (1件)： 安達 光雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-549417
公開番号（公開出願番号）：特表2002-515343
出願日： 1999年05月05日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】この発明はレーザー機械加工システムのレーザービームの焦点の位置を決定するための装置に関し、そこではレーザービームは光ファイバー(9)を介してレーザービームにより機械加工される加工物(3)に伝達される。焦点のz座標位置はレーザー光線の幾らかを光ファイバーの端面(1)に向けて戻り反射するための鏡(6,16)、及び光ファイバーを通して戻り反射された光線を測定するためのレーザー(8)と出力する光ファイバー(9)の間に配置された検出器(11)により決定される。

請求項（抜粋）：

レーザー機械加工システムにおけるレーザービームの焦点の位置を決定するための装置であって、レーザービームが光ファイバー(9)を介してレーザービームにより機械加工される加工物(3)に伝達されるものにおいて、焦点のz座標位置が光線の幾らかを光ファイバーの端面(1)に向けて戻り反射するように配置された鏡(6,16)、及び光ファイバーを通して戻り反射された光線を測定するためにレーザー(8)と出力する光ファイバー(9)との間に配置された検出器(11)により決定されることを特徴とする装置。

IPC (3件)：

B23K 26/04 ,  B23K 26/08 ,  H01S 3/00

FI (3件)：

B23K 26/04 C ,  B23K 26/08 K ,  H01S 3/00 B

Fターム (13件)：

4E068CA11 ,  4E068CC06 ,  4E068CD08 ,  4E068CD11 ,  4E068CE08 ,  4E068CF00 ,  5F072AB02 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK15 ,  5F072KK30 ,  5F072TT01 ,  5F072TT13 ,  5F072YY06