特許

J-GLOBAL ID：200903018411754490

回転式基板乾燥装置

発明者： 志摩 泰正 ,  下村 辰美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-338078
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153477
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】 簡易な構成でありながら回転する基板の裏面における回転中心に効率的に気体を供給することのできる回転式基板乾燥装置を提供することを目的とする。【解決手段】 回転式基板乾燥装置3は、基板Wを支持するスピンチャック13と、中空の回転軸27を有しスピンチャック13を回転駆動するモータ26とを備える。回転軸27の中空部内には、内管28aと外管28bより成る二重管28が回転軸27を貫通するように配設されている。純水は、純水の導入管29より内管28aを通り、スピンチャック13の開口部24を介して基板Wの裏面に噴出される。また、窒素ガスは、窒素ガスの導入管32より外管28bを通り、スピンチャック13の開口部24を介して基板Wの裏面に噴出される。

請求項（抜粋）：

基板をその表面が水平となる姿勢で支持する支持手段を鉛直方向の軸芯周りで回転させることにより基板を乾燥する回転式基板乾燥装置において、中空の回転軸を有するモータと、前記回転軸に接続され前記回転軸を中心として回転するとともに、少なくともその回転中心を含む領域に開口部が形成された支持手段と、前記回転軸の中空部内に配設され、前記回転軸の中空部および前記支持手段の開口部を通って前記支持手段に支持された基板の裏面に気体を供給する気体供給管と、を備えたことを特徴とする回転式基板乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 ,  B08B 3/04

FI (2件)：

H01L 21/304 361 S ,  B08B 3/04 A