特許
J-GLOBAL ID:200903018413462900

新規なポリマーを含有する放射線感光性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-190922
公開番号(公開出願番号):特開平11-349760
出願日: 1998年06月01日
公開日(公表日): 1999年12月21日
要約:
【要約】 (修正有)【解決手段】 ポリマーの新規な混合物を含有するフォトレジスト組成物。この混合物は、ボリマーの少なくとも一方が、酸環境に対して不活性である基によって置換されている、ノボラック樹脂及びポリビニルフェノール樹脂からなる。【効果】フォトレジスト配合物中に使用されるとき、このフォトレジストは、アイーライン照射に露光されたとき改良された現像能力を示す。
請求項(抜粋):
ポリビニルフェノール樹脂及びノボラック樹脂からなるポリマーの混合物であって、当該ポリマーの少なくともひとつが、酸性下で不活性基で置換されたペンダントヒドロキシ基を有し、当該混合物のポリビニルフェノール樹脂のノボラック樹脂に対する重量比が1対10から10対1であるポリマー組成物。
IPC (4件):
C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039
FI (4件):
C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039

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