特許
J-GLOBAL ID:200903018414622919
高圧プロセスにおける固体分の除去装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 千春 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-333744
公開番号(公開出願番号):特開2003-135919
出願日: 2001年10月31日
公開日(公表日): 2003年05月13日
要約:
【要約】【課題】 高価な高圧ポンプを使用せずに有効な逆洗効果を得る。【解決手段】 主ガスラインから分岐したガスを逆洗に利用する逆洗ライン34上に、分岐点30側から順に、ガスを冷却して密度を高める冷却手段35と、第1の開閉バルブ36と、冷却したガスを保持すると共に保持したガスを加熱して高圧化する熱交換器40を有したガス保持タンク37と、第2の開閉バルブ38とを設け、分岐ライン34の先端を逆洗ガス導入口6に接続する。ガス保持タンク37内の冷却ガスを加熱して高圧にしてから、第2の開閉バルブ38を開くことにより高圧ガスによる逆洗を行う。
請求項(抜粋):
プロセス容器から出たガスの一部を高圧化してプロセス容器内に噴射することで、プロセス容器内に付着した固体分を除去する高圧プロセスにおける固体分の除去装置において、前記プロセス容器内にガスを噴射するためのガスライン上に、前記プロセス容器から出たガスの一部を冷却して密度を高めた状態で閉空間内に保持するガス冷却保持手段と、前記閉空間内に保持したガスを加熱して圧力を高める高圧化手段と、前記閉空間内にて高圧化されたガスをプロセス容器内に噴射するために閉空間から放出するバルブ手段とを備えたことを特徴とする高圧プロセスにおける固体分の除去装置。
IPC (2件):
B01D 46/04 103
, B04C 5/12
FI (2件):
B01D 46/04 103
, B04C 5/12 A
Fターム (18件):
4D053AA03
, 4D053AB01
, 4D053BA01
, 4D053BB02
, 4D053BC01
, 4D053BD04
, 4D053CA21
, 4D053CC04
, 4D053CE05
, 4D053CE09
, 4D053CF02
, 4D058JA04
, 4D058MA15
, 4D058MA17
, 4D058MA53
, 4D058QA25
, 4D058SA20
, 4D058TA11
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開昭61-153121
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特開平1-189318
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特開昭63-274423
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