特許

J-GLOBAL ID：200903018425881908

オキシカルボニルメチル基を有する新規なスルホニウム塩化合物

発明者： 伊藤 牧八 ,  仲森 成人
出願人/特許権者： 株式会社三和ケミカル
代理人 (1件)： 羽鳥 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-029846
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228534
出願日： 1998年02月12日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 最大吸収波長が200nm以下でモル吸光係数が低く(102 オーダー)、且つ溶剤に対する溶解性が良く、特に波長193nmのArFエキシマレーザーを露光光とするレジスト材料の感光剤(光酸発生剤)として好適な新規スルホニウム塩化合物を提供すること。【解決手段】 下記〔化1〕の一般式(I)で示される、オキシカルボニルメチル基を一つ以上含むスルホニウム塩化合物。【化1】(式中、Y- は対イオンであり、R1 及びR2 は窒素原子を含まない置換基で同一でも異なっていても良く、また硫黄原子を含む環状構造でも良い。また、R3は水素原子、炭素数1から10の直鎖状、分岐状あるいは橋かけ環式炭化水素基、アルコキシメチル基、テトラヒドロピラン-2-イル基、置換芳香族炭化水素基である。)

請求項（抜粋）：

下記〔化1〕の一般式(I)で示される、オキシカルボニルメチル基を一つ以上含むスルホニウム塩化合物。【化1】(式中、Y- は対イオンであり、R1 及びR2 は窒素原子を含まない置換基で同一でも異なっていても良く、また硫黄原子を含む環状構造でも良い。また、R3は水素原子、炭素数1から10の直鎖状、分岐状あるいは橋かけ環式炭化水素基、アルコキシメチル基、テトラヒドロピラン-2-イル基、置換芳香族炭化水素基である。)

IPC (3件)：

C07C381/12 ,  C09K 9/02 ,  G03F 7/004 503

FI (3件)：

C07C381/12 ,  C09K 9/02 B ,  G03F 7/004 503 A