特許
J-GLOBAL ID：200903018430826990
電解イオン水洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-170989
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022247
出願日： 1996年07月01日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 洗浄液の劣化が少なく、洗浄むらの発生が少ない電解イオン水洗浄装置を提供する。【解決手段】 ノズル部42aの下面に設けられた多数の単管ノズル41はその下方に層流を生成する円筒状の層流生成ノズルであって、その端部は基板W上面近傍に位置しており、基板W上での陰イオン水NWの表面積が可能な限り小さくなるように開孔41hoの内径および単管ノズル41の下端と基板W上面との距離FDが調節されている。そのため、陰イオン水NWの空気に曝される表面積が小さく、陰イオン水NWの劣化が少ない。さらに、陰イオン水NWを基板W上面に噴射するので陰イオン水NWの濃度むらが少なく、基板Wの洗浄むらの発生が少ない。
請求項（抜粋）：
電解液を電気分解して陽イオン水と陰イオン水とを生成し、前記陽イオン水と前記陰イオン水とのうちの一方を洗浄液とし、他方を非洗浄液としつつ、前記洗浄液を使用して被処理基板の洗浄処理を行う装置において、前記電解液を貯留するバッファタンクと、前記バッファタンクから取り出された前記電解液を電気分解して前記洗浄液と前記非洗浄液とをそれぞれ生成する電解漕と、前記洗浄液をノズルから噴射して被処理基板の洗浄を行う洗浄処理部と、前記洗浄に使用した後の前記洗浄液と、前記電解漕から取り出された前記非洗浄液とを前記バッファタンクに戻す帰還経路と、を備え、前記ノズルとして、前記被処理基板の上に前記洗浄液の層流を生成させる層流生成ノズルを使用していることを特徴とする電解イオン水洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/10
, C02F 1/46
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 341 S
, B08B 3/10 Z
, C02F 1/46 A
