特許
J-GLOBAL ID：200903018432521020
2次元フィーチャ・モデルの較正および最適化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-331394
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215780
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィ・マスク修正プロセスを容易化する方法の提供。【解決手段】 本発明の方法は、(a)あるデータ・フォーマットで表される1組の較正パターンを定義する段階、(b)所与の結像システムを用いて基板上に較正パターンを印刷する段階、(c)基板上に結像した較正パターンに対応する第1の組の輪郭パターンを決定する段階、(d)結像システムの結像性能を近似するシステム擬似強度関数を生成する段階、(e)較正パターンが基板にどのように結像されるかを定義するために、システム擬似強度関数を用いて第2の組の輪郭パターンを決定する段階、(f)第1組および第2組の輪郭パターンを比較して差を求める段階、(g)第1組および第2の組の輪郭パターンの差が所定の基準を下回るまでシステム擬似強度関数を調節する段階、および(h)調節したシステム擬似強度関数を用いて光近接補正を提供するようにマスクを修正する段階を含む。
請求項（抜粋）：
結像システムで使用するための較正モデルを生成する方法であって、所定のデータ・フォーマットで表される1組の較正パターンを定義するステップと、前記結像システムを利用して基板上に前記較正パターンを印刷するステップと、前記基板上に結像される前記較正パターンに対応する第1の組の輪郭パターンを決定するステップと、前記結像システムの結像性能に近似するシステム擬似強度関数を生成するステップと、前記較正パターンがどのように前記基板内に結像されるかを定義するために前記システム擬似強度関数を利用して第2の組の輪郭パターンを決定するステップと、前記第1の組の輪郭パターンと前記第2の組の輪郭パターンを比較して、前記第1の組の輪郭パターンと前記第2の組の輪郭パターンの差を求めるステップと、前記第1の組の輪郭パターンと前記第2の組の輪郭パターンの前記差が所定の基準を下回るまで前記システム擬似強度関数を調節するステップとを含む較正モデル生成方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
2H095BA07
, 2H095BA08
, 2H095BA10
, 2H095BB02
, 2H095BC09
