特許
J-GLOBAL ID：200903018438040740
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-116566
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004791
出願日： 2003年04月22日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】反射を用いた検査において、異なる2つの検査波長に対応し、いずれの検査波長を用いた場合でも十分な検査精度が得られるハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。【解決手段】位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜からなり、前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクを用いて製造したハーフトーン型位相シフトマスクの検査に用いられる検査光の波長に対する上層の膜の屈折率が下層の膜の屈折率よりも小さく、かつ前記位相シフター膜の前記検査光に対する表面反射率が、異なる2つ以上の検査波長に対し所望の反射率となるように、上層の膜厚が調整されていることを特徴とする。【選択図】 図なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光光を透過させる光透過部と、露光光の一部を透過させると同時に透過した光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部を有し、前記光透過部と位相シフター部の境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消し合うように光学特性を設計することで、被露光体表面に転写される露光パターン境界部のコントラストを良好に保持、改善できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、
前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜からなり、前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクを用いて製造したハーフトーン型位相シフトマスクの検査に用いられる検査光の波長に対する上層の膜の屈折率が下層の膜の屈折率よりも小さく、かつ前記位相シフター膜の前記検査光に対する表面反射率が、異なる2つ以上の検査波長に対し所望の反射率となるように、上層の膜厚が調整されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/08 A
, G03F1/08 K
, H01L21/30 502P
