特許
J-GLOBAL ID：200903018440424831
基板の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213102
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061210
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】 基板の洗浄方法に関し,薬液または水洗処理中に,基板上への微粒子の付着の抑制を目的とする。【構成】 洗浄用液体を下側より供給し上縁より溢流する処理槽に, 支持物に保持された被洗浄基板を降下させて該処理槽中に浸漬する際に,降下速度を小さくした期間を有するシーケンスで浸漬するように構成する。
請求項（抜粋）：
洗浄用液体を下側より供給し上縁より溢流する処理槽に, 支持物に保持された被洗浄基板を降下させて該処理槽中に浸漬する際に,降下速度を小さくした期間を有するシーケンスで浸漬することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
