特許
J-GLOBAL ID:200903018466058370

AlまたはAl合金製真空チャンバ部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-282312
公開番号(公開出願番号):特開平8-144089
出願日: 1994年11月16日
公開日(公表日): 1996年06月04日
要約:
【要約】【目的】 CVD装置,PVD装置,ドライエッチング装置などに用いられるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材であって、真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を発揮するAlまたはAl合金製真空チャンバ部材を提供する。【構成】 硫酸イオン(または、りん酸イオン)を含む溶液中で陽極酸化処理されて多孔質な酸化皮膜が形成されてなるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材であって、上記酸化皮膜の表面に形成された凹部の全表面積をa、該凹部を除いた外表面の面積をbとしたとき、(a+b)/bの値が3000以下(りん酸イオンの場合は700以下)であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
硫酸イオンを含む溶液中で陽極酸化処理されて多孔質な酸化皮膜が形成されてなるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材であって、上記酸化皮膜の表面に形成された凹部の全表面積をa、該凹部を除いた外表面の面積をbとしたとき、(a+b)/bの値が3000以下であることを特徴とするAlまたはAl合金製真空チャンバ部材。
IPC (4件):
C25D 11/04 302 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00

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