特許
J-GLOBAL ID:200903018470147530
疎水性および親水性の成分を有する水性ゲル形成システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-610306
公開番号(公開出願番号):特表2002-541308
出願日: 2000年03月20日
公開日(公表日): 2002年12月03日
要約:
【要約】不飽和基端末を有する疎水性マクロマーおよび不飽和基挿入化合物と反応する水酸基を含有するポリサッカリドである親水性ポリマーを含む水性ゲル形成システムが、フリーラジカル的重合により変換されて、疎水性および親水性の成分を有する3次元橋かけポリマー・ネットワークを含有する水性ゲルを形成する。特に、疎水性マクロマーが、脂肪族ポリエステルの端末カルボン酸の水酸基をアミノエタノール基に変換することにより得られるジオールの水酸基を、分子の1つの端末に不飽和基を有するアクリロイルクロライドまたはイソシアネートである不飽和基挿入化合物と反応せしめてつくられる。特に、親水性ポリマーがデキストランであって、デキストランのグルコース単位中の1以上の水酸基が、分子の1つの端末に不飽和基を有するアクリロイルクロライドまたはイソシアネートである不飽和基挿入化合物と反応せしめられる。ポリマー・ネットワーク中に、制御された放出のために捕捉され得る物質は、例えば、薬物、水溶性マクロ分子、合成または天然のポリマーである。
請求項(抜粋):
フリーラジカル的重合により1相の橋かけネットワーク構造に変換され得る疎水性および親水性の成分を含む、水性ゲル形成システム。
IPC (9件):
C08F299/00 ZBP
, A61K 9/20
, A61K 31/405
, A61K 38/00
, A61K 38/28
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61P 3/10
, A61P 29/00
FI (9件):
C08F299/00 ZBP
, A61K 9/20
, A61K 31/405
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61P 3/10
, A61P 29/00
, A61K 37/26
, A61K 37/02
Fターム (37件):
4C076AA36
, 4C076BB01
, 4C076CC04
, 4C076CC30
, 4C076EE10A
, 4C076EE24A
, 4C076EE38A
, 4C076EE46
, 4C076FF32
, 4C076FF35
, 4C076FF67
, 4C084AA02
, 4C084AA03
, 4C084BA03
, 4C084DB34
, 4C084MA05
, 4C084MA34
, 4C084MA52
, 4C084NA06
, 4C084NA12
, 4C084ZC032
, 4C084ZC352
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086BC15
, 4C086MA03
, 4C086MA05
, 4C086MA35
, 4C086NA06
, 4C086NA11
, 4C086NA12
, 4C086ZB11
, 4J027AB01
, 4J027AB02
, 4J027AB10
, 4J027CB08
, 4J027CD07
引用特許:
審査官引用 (2件)
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デキストランエステル共重合体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-159223
出願人:名糖産業株式会社, 株式会社サンコンタクトレンズ
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特表平7-506961
引用文献:
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