特許
J-GLOBAL ID：200903018479747093
イオン源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-138367
公開番号（公開出願番号）：特開平8-315743
出願日： 1995年05月12日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 イオン源チャンバの壁面にはプラズマを閉じ込めるため、永久磁石が多数取り付けられる。従来は円筒形のチャンバの外壁に縦溝を切って永久磁石を埋め込むようになっていた。これは時間のかかる溝掘り加工を必要とする。より加工容易な永久磁石の取付構造を提供することが目的である。【構成】 放射溝を切った穴空き円盤状の永久磁石ホルダ-を鍔板の内側に設けて放射溝に永久磁石の両端を差し入れ、抜け止めする。或いは、平滑なチャンバ胴部の外周面に永久磁石を配置し、外側から永久磁石取付板によって押さえる。
請求項（抜粋）：
円筒形のチャンバ胴部と、チャンバ胴部の両端に固定される2枚の鍔板と、鍔板の内側に設けられ複数の放射溝を刻設した互いに対向する2枚の永久磁石ホルダ-と、永久磁石ホルダ-の放射溝に両端が支持され底面がチャンバ胴部に接触する複数の永久磁石と、永久磁石の両端を押さえるための止め具とよりなることを特徴とするイオン源。
IPC (3件)：
H01J 27/02
, H01J 37/08
, H05H 1/11
H01J 27/02
, H01J 37/08
, H05H 1/11
