特許
J-GLOBAL ID：200903018511100714
アミド化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-189633
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072658
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：
【要約】【課題】 高転化率、高収率でアミド化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 オキシム化合物を液相中でベックマン転位反応を行う事によりアミド化合物を製造する方法において、予め酸を含む水溶液で処理したゼオライトであって、Si/M(Mはゼオライトの骨格を構成する周期表の第3〜14族から選ばれるSi及びC(炭素)以外の全ての原子)比が2000以下のゼオライトを触媒として使用する事を特徴とするアミド化合物の製造方法。
請求項（抜粋）：
オキシム化合物を液相中でベックマン転位反応を行う事によりアミド化合物を製造する方法において、予め酸を含む水溶液で処理したゼオライトであって、Si/M(Mはゼオライトの骨格を構成する周期表の第3〜14族から選ばれるSi及びC(炭素)以外の全ての原子)比が2000以下のゼオライトを触媒として使用する事を特徴とするアミド化合物の製造方法。
IPC (7件)：
C07D201/04
, B01J 29/08
, B01J 29/70
, C07C231/10
, C07C233/05
, C07D223/10
, C07B 61/00 300
C07D201/04
, B01J 29/08 X
, B01J 29/70 X
, C07C231/10
, C07C233/05
, C07D223/10
, C07B 61/00 300
