特許
J-GLOBAL ID：200903018521616468

表示装置及びその製造方法

発明者：
田中 勉

田中 勉 について

, 
中野 実

中野 実 について

, 
藤野 昌宏

藤野 昌宏 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-052877
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242803
出願日： 2000年02月29日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】 基板と画素の間に介在する多層膜による不要反射や着色を防止する。【解決手段】 表示装置は、透明な基板1の上にマトリクス状に配列した画素を有する。各画素は、基板1を通して光を出射する電気光学素子が形成された開口領域と、電気光学素子を駆動する薄膜トランジスタTFTが形成された非開口領域とを有する。非開口領域は、薄膜トランジスタTFTを包含する第一の膜構成を有する。開口領域は、第一の膜構成から延在し且つ電気光学素子と基板1との間に介在する第二の膜構成を有する。第二の膜構成は、開口領域を通る光を調整するため、第一の膜構成から変化している。
請求項（抜粋）：
透明な基板の上にマトリクス状に配列した画素を有し、各画素は、該基板を通して光を出射する電気光学素子が形成された開口領域と、該電気光学素子を駆動する薄膜トランジスタが形成された非開口領域とを有し、前記非開口領域は、該薄膜トランジスタを包含する第一の膜構成を有し、前記開口領域は、該第一の膜構成から延在し且つ該電気光学素子と該基板との間に介在する第二の膜構成を有し、前記第二の膜構成は、該開口領域を通る光を調整するため、該第一の膜構成から変化していることを特徴とする表示装置。
IPC (4件)：
G09F 9/30 338 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (3件)：
G09F 9/30 338 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 Z
Fターム (73件)：
2H092GA05 ,  2H092JA25 ,  2H092JA26 ,  2H092JA34 ,  2H092JA46 ,  2H092JB58 ,  2H092KA04 ,  2H092KB24 ,  2H092KB25 ,  2H092MA30 ,  2H092NA01 ,  2H092NA03 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  2H092PA06 ,  2H092PA08 ,  5C094AA08 ,  5C094AA10 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094ED14 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB02 ,  5C094FB12 ,  5C094FB14 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC02 ,  5F110CC07 ,  5F110CC08 ,  5F110DD02 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110DD17 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG25 ,  5F110GG44 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ13 ,  5F110HJ23 ,  5F110HL03 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN12 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN72 ,  5F110NN80 ,  5F110PP02 ,  5F110PP03 ,  5F110PP10 ,  5F110QQ11
引用特許：
審査官引用 (2件)

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