特許
J-GLOBAL ID:200903018523950225

パッケージングシステムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 佐藤 一雄 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  黒瀬 雅志
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-509636
公開番号(公開出願番号):特表2004-500280
出願日: 1998年08月20日
公開日(公表日): 2004年01月08日
要約:
本発明は、第1のステップを有するパッケージングシステム(4)を製造する方法に関する。前記パッケージングシステムは、中空の本体(4)を有し、前記第1のステップは、第1のアプリケーション手段(5)を用いてパッケージングシステムの選択された表面領域に第1の物質を噴射する。選択された表面領域及び中空の本体(4)の双方は、第1のアプリケーション手段(5)に対して動き、選択された表面領域は、第1のステップの間第1の物質に接触する。またこの方法は、第2のステップを有し、このステップは、第1のステップの完了後に第2のアプリケーション手段を用いて選択された表面領域に第2の物質を噴射することからなる。選択された表面領域及び中空の本体の双方は、第2のアプリケーション手段に関して動き、選択された表面領域は、第2のステップの間第2の物質に接触する。この方法は、連続したライン速度で実施される。
請求項(抜粋):
第1のステップと第2のステップを有し、前記第1のステップは、第1のアプリケーション手段を用いて、中空の本体を有する前記パッケージングシステムの選択された表面領域に第1の物質を噴射し、前記選択された表面領域及び中空の本体は、双方が前記第1のアプリケーション手段に対して移動し、前記第1のアプリケーション手段及び前記選択された表面領域は、第1のステップの間に第1の物質とのみ接触するパッケージングシステムの製造方法において、第2のステップは、第1のステップが完了した後、第2のアプリケーション手段を用いて前記選択された表面領域に第2の物質を噴射し、前記選択された表面領域及び中空の本体は、双方が前記第2のアプリケーション手段に対して移動し、前記選択された表面領域は、第2のステップの間に第2の物質とのみ接触し、連続したライン速度で処理されることを特徴とするパッケージングシステムの製造方法。
IPC (2件):
B65B61/02 ,  B41J2/01
FI (2件):
B65B61/02 ,  B41J3/04 101Z
Fターム (9件):
2C056EA24 ,  2C056FA02 ,  2C056FB01 ,  2C056FB04 ,  2C056FB09 ,  3E056CA08 ,  3E056DA05 ,  3E056FA01 ,  3E056FA04

前のページに戻る