特許
J-GLOBAL ID：200903018533233360
プラズマ処理方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-060625
公開番号（公開出願番号）：特開平8-246146
出願日： 1986年10月20日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：
【要約】【課題】従来技術の空胴共振器を使った方式では、共振器の中でプラズマを発生させる構造のため、プラズマが発生すると、マイクロ波の波長がプラズマの密度により変化するため、共振条件が満たされず、プラズマが不安定になるという問題があった。【解決手段】プラズマ処理装置を、マイクロ波発生源と、このマイクロ波発生源から供給されたマイクロ波を大気中で共振させる空胴共振器手段と、マイクロ波の波長の半分以上の長さを有して空胴共振器手段で共振させたマイクロ波を放射する複数のスリットを平板上に配置したスリット手段と、内部に基板を設置し所定の圧力に維持された状態でスリット手段から放射されたマイクロ波を導入するプラズマ処理室手段と、このプラズマ処理室手段とスリット手段とを分離しマイクロ波を透過する分離手段と、プラズマ処理室の内部に磁場を形成する磁場形成手段とを備え、この磁場発生手段で形成した磁場中にマイクロ波を導入することによりプラズマを発生させて基板を処理する構成とした。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発生源と、該マイクロ波発生源から供給されたマイクロ波を大気中で共振させる空胴共振器手段と、前記マイクロ波の波長の半分以上の長さを有して前記空胴共振器手段で共振させた前記マイクロ波を放射する複数のスリットを平板上に配置したスリット手段と、内部に基板を設置し所定の圧力に維持された状態で前記スリット手段から放射されたマイクロ波を導入するプラズマ処理室手段と、該プラズマ処理室手段と前記スリット手段とを分離し前記マイクロ波を透過する分離手段と、前記プラズマ処理室の内部に磁場を形成する磁場形成手段とを備え、該磁場発生手段で形成した磁場中に前記マイクロ波を導入することによりプラズマを発生させ、該発生させたプラズマにより前記基板を処理することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
C23C 14/35
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/203
, H05H 1/46
C23C 14/35 F
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/203 S
, H05H 1/46 C
