電子ビーム露光装置および電子ビーム露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-028474
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224642
出願日： 1998年02月10日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】電子ビームのボケを検出する手段を有する電子ビーム露光装置に関し、電子ビームの整形形状に影響されずに電子ビームのボケの大きさを定量化してリフォーカス係数を決定すること。【解決手段】試料上に照射された電子ビームの反射量を測定して試料2上の第1の電荷強度分布の第1の波形を取得する実測電荷強度分布取得手段43と、整形手段20の透過領域の形状データに基づきボケをパラメータにして理論上の電荷強度分布の第2の波形を演算する電荷強度分布演算手段53と、第1の波形と第2の波形を比較して第1の波形と第2の波形の差が最小となるボケの大きさを試料2上に照射された実際のボケ値として定義するボケ値定義手段55とを含む。

請求項（抜粋）：

電子ビームを試料に向けて出射する電子ビーム発生手段と、前記電子ビームを整形するための透過領域を有する整形手段と、前記整形手段を透過した前記電子ビームを前記試料の面上で収束させる収束手段と、前記収束手段によって収束される前記電子ビームの焦点を調整する焦点調整手段と、前記試料上に照射された前記電子ビームの反射量を測定して前記試料上の第1の電子照射強度分布の第1の波形を取得する実測電子照射強度分布取得手段と、前記整形手段の前記透過領域の形状データに基いてボケをパラメータにして理論上の電子照射強度分布の第2の波形を演算する電子照射強度分布演算手段と、前記第1の波形と前記第2の波形を比較して、前記第1の波形と前記第2の波形の差が所定の大きさとなる前記ボケの大きさを前記試料上に照射された前記電子ビームの実際のボケ値として定義するボケ値定義手段とを有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (6件)：

H01J 37/305 , G03F 7/20 504 , H01J 37/04 , H01J 37/147 , H01J 37/21 , H01L 21/027

FI (6件)：

H01J 37/305 B , G03F 7/20 504 , H01J 37/04 A , H01J 37/147 C , H01J 37/21 Z , H01L 21/30 541 V

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