特許

J-GLOBAL ID：200903018543503616

シャドーマスクの製造方法

発明者： 城ノ下 幸慶 ,  上村 敏文
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-150244
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014505
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】【目的】シャドーマスク基材の二次エッチングに先立ち基材の小孔側に形成されるエッチング抵抗層塗膜の孔埋まり不良を低減し、高品位なシャドーマスクを製造する方法の提供を目的とする。【構成】一次エッチング終了後のシャドーマスク用基材の小孔側に予め金属基材および感光性レジストの臨界表面張力以下の表面張力を有する濡れ剤を塗布し、感光性レジスト上および小孔内部を該濡れ剤で被覆した後に水性型耐蝕刻性塗料を塗布することを特徴とするシャドーマスクの製造方法。【効果】本発明により、エッチング抵抗層の孔埋まり不良に起因する塗膜欠陥が著しく減少し、極めて高品位で微細な電子ビームの透過孔を形成することができるようになり、良好なシャドーマスクを製造することが可能となった。

請求項（抜粋）：

一次エッチング終了後のシャドーマスク用基材の小孔側に予め金属基材および感光性レジストの臨界表面張力以下の表面張力を有する濡れ剤を塗布し、感光性レジスト上および小孔内部を該濡れ剤で被覆した後に水性型耐蝕刻性塗料を塗布することを特徴とするシャドーマスクの製造方法。