特許
J-GLOBAL ID:200903018572779094
水溶性ポリマー組成と使用方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山下 昭彦 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-510422
公開番号(公開出願番号):特表2003-528936
出願日: 2000年06月15日
公開日(公表日): 2003年09月30日
要約:
【要約】四級アンモニウム塩モノマー、及び随意的に(メタ)アクリル酸又は2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、メチレンビス-アクリルアミド等、並びにC1-C3アルキル(メタ)アクリレートアクリルアミド又はメタクリルアミドを含む溶液又は油中水型エマルション形態の新規な水溶性ポリマーと、毛髪、肌及び爪のコンディショニング、製紙、並びに地下井戸掘削及び井戸セメンティング作業における前記ポリマーの使用を開示する。
請求項(抜粋):
(a)ハロゲン化アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム、ハロゲン化メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム、ハロゲン化メチロイロキシエチルトリメチルアンモニウム、メチル硫酸メチロイロキシエチルトリメチルアンモニウム、ハロゲン化アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウム、及びハロゲン化ジメチルジアリルアンモニウムと、から成る群から選択される少なくとも一つのモノマーと、 (b)アクリル酸、メタクリル酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸及び2-メタクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸と、から成る群から選択される0から80mol%の一つのモノマーと、 (c)N,N’-メチレンビスアクリルアミド(MBA)、塩化トリアリルメチルアンモニウム(TAMAC)、アリルメタクリレート(AM)、n-メチロールアクリルアミド(nMA)、ポリエチレングリコールジメタクリレート(PEGDMA)、エチレングリコールジメタクリレート(EGDMA)、ジエチレングリコールジメタクリレート(DEGDMA)、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート(HDMA)及びアリルスクロース(AS)とから成る群から選択される少なくとも一つのモノマーと、 (d)C1-C3アルキルアクリレート、C1-C3アルキルメタクリレート、アクリルアミド、n-アルキルアクリルアミド、メタクリルアミド、n-アルキルメタクリルアミド及びジアセトンアクリルアミドと、から成る群から選択される0から約70mol%の一つの非イオン性モノマーと、 から成る分岐又は架橋両性電解質ポリマーのモノマー部を含む組成において、 前記ポリマーの粘度により決定された重量平均分子量は、少なくとも約10,000であることを特徴とする組成。
IPC (16件):
C08F220/54
, A61K 7/00
, A61K 7/06
, A61K 7/48
, C08F220/06
, C08F220/10
, C08F224/00
, C08F226/02
, C08F290/06
, C08K 3/34
, C08K 5/10
, C08K 5/20
, C08L101/00
, C09K 7/02
, D21H 17/37
, D21H 21/10
FI (16件):
C08F220/54
, A61K 7/00 J
, A61K 7/06
, A61K 7/48
, C08F220/06
, C08F220/10
, C08F224/00
, C08F226/02
, C08F290/06
, C08K 3/34
, C08K 5/10
, C08K 5/20
, C08L101/00
, C09K 7/02 C
, D21H 17/37
, D21H 21/10
Fターム (80件):
4C083AD071
, 4C083AD072
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083CC02
, 4C083CC28
, 4C083CC38
, 4C083DD31
, 4C083DD35
, 4C083EE07
, 4J002BG011
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG061
, 4J002BG071
, 4J002BG131
, 4J002BJ001
, 4J002BQ001
, 4J002CH052
, 4J002DJ036
, 4J002EH056
, 4J002EH146
, 4J002EH156
, 4J002EP016
, 4J002FD312
, 4J002FD316
, 4J002GB00
, 4J002GL00
, 4J002HA04
, 4J002HA07
, 4J027AC03
, 4J027AC06
, 4J027BA04
, 4J027BA07
, 4J027BA14
, 4J027BA19
, 4J027BA20
, 4J027CA10
, 4J027CD07
, 4J100AJ02S
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL62R
, 4J100AL66R
, 4J100AL75R
, 4J100AM15Q
, 4J100AM17Q
, 4J100AM21P
, 4J100AM21Q
, 4J100AM21S
, 4J100AM24R
, 4J100AN13R
, 4J100AN14P
, 4J100AQ01R
, 4J100BA02R
, 4J100BA03R
, 4J100BA08R
, 4J100BA14Q
, 4J100BA32P
, 4J100BA56S
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100CA23
, 4J100DA01
, 4J100DA09
, 4J100DA38
, 4J100DA56
, 4J100JA61
, 4J100JA67
, 4L055AG70
, 4L055AG71
, 4L055AG72
, 4L055AG73
, 4L055AG89
, 4L055AG93
, 4L055AH18
, 4L055BD10
, 4L055EA30
, 4L055FA10
, 4L055FA20
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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高分子化学, 1994, 第4版, 第10-12頁
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