特許
J-GLOBAL ID:200903018578640233
Al-Si合金の溶湯の初晶Siを微細化する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
飯田 幸郷 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-276354
公開番号(公開出願番号):特開2000-073128
出願日: 1998年08月25日
公開日(公表日): 2000年03月07日
要約:
【要約】【課題】Al-Si合金の初晶Siを微細化すること。【解決手段】Al-Si合金の溶湯にPを添加し、前記Pを添加した溶湯にZnメッキを施した金属基材またはCu製の金属基材を極く短時間接触し、前記金属基材を除去することからなるAl-Si合金の初晶Siを微細化することからなる。
請求項(抜粋):
Al-Si合金の溶湯にPを添加し、前記Pを添加した溶湯にZnメッキを施した金属基材を極く短時間接触し、前記メッキを施した金属基材を除去することからなるAl-Si合金の初晶Siを微細化する方法。
IPC (3件):
C22C 1/02 503
, B22D 21/04
, B22D 27/04
FI (3件):
C22C 1/02 503 J
, B22D 21/04 A
, B22D 27/04 C
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭59-225872
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特開昭61-147860
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