特許

J-GLOBAL ID：200903018578726332

シリコンの精製方法及びその装置

発明者： 阪口 泰彦 ,  荒谷 復夫 ,  湯下 憲吉 ,  馬場 裕幸
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305932
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139713
出願日： 1991年11月21日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【目的】 ボロン含有量の低い精製シリコンを、安価に、かつ量産する。【構成】 シリカあるいはシリカを主成分とする容器内に溶融シリコンを保持し、該溶融シリコンの溶湯面に不活性ガスのプラズマガスジェット流を噴射するとともに、該容器の底部より不活性ガスを吹き込むことを特徴とするシリコンの精製方法、及びこの方法を実施するための溶融シリコンを保持するためのシリカあるいはシリカを主成分とする容器と、該容器の外側から該容器内の溶融シリコンに熱を与える加熱手段と、該容器内の溶融シリコンの溶湯面にプラズマガスジェット流を噴射するプラズマトーチと、該容器の底部にガスを吹き込む羽口とを備えたことを特徴とするシリコンの精製装置。プラズマ用及び底部吹込用不活性ガスに、水蒸気,二酸化炭素又は酸素を添加することが好ましい。

請求項（抜粋）：

シリカあるいはシリカを主成分とする容器内に溶融シリコンを保持し、該溶融シリコンの溶湯面に不活性ガスのプラズマガスジェット流を噴射するとともに、該容器の底部より不活性ガスを吹き込むことを特徴とするシリコンの精製方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-267110
  
• 特開昭52-144270
  
• 特開昭52-144270