特許
J-GLOBAL ID：200903018592991952
応答性の改善されたポリシランフォトリフラクティブ素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-079025
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271822
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 ポリシラン系のフォトリフラクティブ材料を用いた応答速度の速いフォトリフラクティブ素子を提供する。【解決手段】 ポリシラン中のシラノール含有量を少量に抑えることにより応答速度を1秒以下にしたポリシランフォトリフラクティブ素子。
請求項（抜粋）：
ポリシラン中に含まれるシラノール量を減少させ、その回折光強度が、ポリシランフォトリフラクティブ素子にレーザ光の照射を始めて後最終回折光強度の50%となるまでに要する時間が1秒以下である応答性の改善された前記ポリシランフォトリフラクティブ素子。
引用文献：
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