特許
J-GLOBAL ID：200903018600130317
感光性レジスト膜のベーキング方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060271
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275512
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 感光性レジスト膜のベーキング方法とその装置に関し、感光性レジスト膜をベーキングするためのホットプレートの温度分布を均一にして、ベーキング後の感光性レジスト膜の膜厚を均一にし、これをマスクにしてエッチングするパターンの線幅を均一化する方法と装置を提供する。【構成】 被処理基板4に形成された感光性レジスト膜を露光、現像した後にベーキングする際、ベーキングチャンバー1の排気管7からベーキングチャンバー1の排気の少なくとも一部を、バルブ10、フィルター11、ポンプ12を具えるガス流路9を通して、パージガス供給管6を通して供給されるパージガスと混合し、パージガスをベーキングチャンバー1の雰囲気の温度近くまで昇温してベーキングチャンバー1に供給する。この排気の還流に代えて、または還流とともに、ベーキングチャンバー1に供給するガスを昇温することもできる。
請求項（抜粋）：
被処理基板上に形成された感光性レジスト膜を露光、現像した後にベーキングする際、パージガスをベーキングチャンバー雰囲気に近い温度まで昇温して供給することを特徴とする感光性レジスト膜のベーキング方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 361 G
, H01L 21/30 361 H
