特許

J-GLOBAL ID：200903018601290369

投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法

発明者： 笹谷 俊博 ,  遠藤 一正 ,  牛田 一雄
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164374
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015994
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系内に残存する投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を調整可能としながら、耐久性、再現性に優れた高性能な投影露光装置を提供することである。【解決手段】 第1物体35を照明する照明光学系と、照明光学系によって照明された第1物体35の像を所定の倍率のもとで第2物体38に投影する投影光学系36とを有する投影露光装置において、第1物体と第2物体との間に、投影光学系の光軸に対して回転非対称なパワーを持つ光学手段(1,2)を配置し、光学手段は、投影光学系に残存する投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を補正するために、投影光学系の光軸を中心に回転可能または投影光学系の光軸に沿って移動可能に設けられ、投影光学系は、投影光学系にてランダムに残存する回転非対称な誤差成分や収差成分を補正するために加工が施された光学素子を有する。

請求項（抜粋）：

第1物体を照明する照明光学系と、該照明光学系によって照明された前記第1物体の像を所定の倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記第1物体と前記第2物体との間に、前記投影光学系の光軸に対して回転非対称なパワーを持つ光学手段を配置し、前記光学手段は、前記投影光学系に残存する前記投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を補正するために、前記投影光学系の光軸を中心に回転可能または前記投影光学系の光軸に沿って移動可能に設けられ、前記投影光学系は、前記投影光学系にてランダムに残存する回転非対称な誤差成分や収差成分を補正するために加工が施された光学素子を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (16件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA01 ,  2H087NA09 ,  2H087RA06 ,  2H087RA07 ,  2H087RA08 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DA26 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12