特許

J-GLOBAL ID：200903018603031050

低損失希土類元素添加光導波路およびその製造方法

発明者： 中沢 正隆 ,  井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122106
公開番号（公開出願番号）：特開平5-313034
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】 比屈折率差を大きくとれ、低損失化を図ることを可能とする。【構成】 屈折率がn<SB>W </SB>の略矩形状のコア18の外周を屈折率がn<SB>C </SB>(n<SB>C </SB><n<SB>W </SB>)のクラッド19で覆った光導波路において、上記コア18の材質に希土類元素イオンを含有したSiO<SB>X </SB>N<SB>Y </SB>H<SB>Z </SB>(x,y>0,z≧0の実数)を用いたことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

屈折率がn<SB>W </SB>の略矩形状のコアの外周を屈折率がn<SB>C </SB>(n<SB>C </SB><n<SB>W </SB>)のクラッドで覆った光導波路において、上記コアの材質に希土類元素イオンを含有したSiO<SB>X </SB>N<SB>Y </SB>H<SB>Z </SB>(x,y>0,z≧0の実数)を用いたことを特徴とする低損失希土類元素添加光導波路。

IPC (6件)：

G02B 6/12 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02F 1/35 501 ,  H01S 3/10 ,  H01S 3/17