特許

J-GLOBAL ID：200903018615924476

脱酸素剤用還元鉄粉及びその製造方法

発明者： 和泉 信明 ,  五十嵐 哲也 ,  佐藤 祐二
出願人/特許権者： パウダーテック株式会社
代理人 (1件)： 羽鳥 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-098441
公開番号（公開出願番号）：特開2002-292276
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月08日
要約：

【要約】【課題】 酸化速度が非常に高く、しかも還元装置の壁面等への付着がなく、生産性に優れ、かつ廉価な脱酸素剤用還元鉄粉及びその製造方法を提供する。【解決手段】 比表面積が1.0m2 /g以上、見掛密度が1.0g/cm3 以下、平均粒径が9.0μm以下であることを特徴とする脱酸素剤用還元鉄粉。

請求項（抜粋）：

比表面積が1.0m2 /g以上、見掛密度が1.0g/cm3 以下、平均粒径が9.0μm以下であることを特徴とする脱酸素剤用還元鉄粉。

IPC (8件)：

B01J 20/06 ,  B01D 53/14 ,  B01J 20/30 ,  B22F 1/00 ,  B22F 9/04 ,  B22F 9/22 ,  C21B 13/00 ,  A23L 3/3436 501

FI (8件)：

B01J 20/06 A ,  B01D 53/14 B ,  B01J 20/30 ,  B22F 1/00 U ,  B22F 9/04 C ,  B22F 9/22 G ,  C21B 13/00 ,  A23L 3/3436 501

Fターム (37件)：

4B021LA02 ,  4B021MC04 ,  4B021MK10 ,  4D020AA02 ,  4D020BA04 ,  4D020BB01 ,  4D020CA02 ,  4D020CA04 ,  4G066AA02B ,  4G066BA02 ,  4G066BA09 ,  4G066BA12 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA37 ,  4G066DA03 ,  4G066EA07 ,  4G066FA17 ,  4K012DA01 ,  4K012DA05 ,  4K012DA09 ,  4K017AA03 ,  4K017BA06 ,  4K017CA07 ,  4K017DA09 ,  4K017EA03 ,  4K017EH14 ,  4K017EH18 ,  4K017FB03 ,  4K017FB06 ,  4K018BA13 ,  4K018BB01 ,  4K018BB04 ,  4K018BB06 ,  4K018BD10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-090848
  
• 脱酸素剤用鉄粉及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-038651   出願人：パウダーテック株式会社