特許
J-GLOBAL ID:200903018630344230
3次元形状計測装置および方法、並びに記録媒体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
稲本 義雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-269838
公開番号(公開出願番号):特開2001-091232
出願日: 1999年09月24日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】 対応点付けを確実に実行し、ミスマッチング領域の発生を減少させる。【解決手段】 投光パターン生成回路2は、一様乱数や正規乱数を用い、ドットのサイズ、線の長さや太さ、位置、濃度等が不規則な投光パターンを生成して投光器3に供給する。投光器3は、投光パターンを被写体1に拡大して照射する。基準カメラ4は、基準画像を撮影する。基準カメラ4に対して所定の距離と角度が設けられている参照カメラ5は、参照画像を撮影する。画像間対応付け回路6,7は、基準画像と、参照画像との対応点付けを行う。距離画像生成回路8は、画像間対応付け回路6,7から入力される基準画像と参照画像の各画素の視差を用いて、距離画像を生成する。
請求項(抜粋):
被写体を異なる視点から撮影した画像を用いて、前記被写体の3次元形状を計測する3次元形状計測装置において、乱数を用いて非周期的な投光パターンを生成する投光パターン生成手段と、前記被写体に複数の前記投光パターンを切り替えて照射する照射手段と、前記照射手段により前記投光パターンが照射された前記被写体を撮影して、基準画像を生成する第1の撮影手段と、前記第1の撮影手段の位置とは異なる位置から、前記照射手段により前記投光パターンが照射された前記被写体を撮影して、参照画像を生成する第2の撮影手段と、同一の前記投光パターンに対応する前記基準画像上の画素と、前記参照画像上の画素との対応を識別して、対応する画素間の視差を算出する識別手段と、前記視差に基づいて距離画像を生成する距離画像生成手段とを含むことを特徴とする3次元形状計測装置。
IPC (3件):
G01B 11/24
, G01C 3/06
, G06T 7/00
FI (3件):
G01C 3/06 V
, G01B 11/24 K
, G06F 15/62 415
Fターム (27件):
2F065AA06
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD00
, 2F065FF05
, 2F065HH06
, 2F065HH07
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ26
, 2F065MM26
, 2F065PP23
, 2F065QQ04
, 2F065QQ24
, 2F065QQ39
, 2F065UU01
, 2F065UU05
, 2F112AC04
, 2F112AC06
, 2F112EA07
, 2F112FA03
, 2F112FA07
, 2F112FA19
, 5B057DA07
, 5B057DB03
, 5B057DC02
, 5B057DC09
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