特許
J-GLOBAL ID：200903018637056044

排ガスの処理方法及び装置

発明者：
山田 愼一

山田 愼一 について

, 
高橋 和義

高橋 和義 について

, 
後藤 浩平

後藤 浩平 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-275612
公開番号（公開出願番号）：特開2000-102719
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】【課題】 高脱硝率が得られ、副製品の生成も容易な排ガスの処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 SOx、NOx、DXN類を含有する排ガスは、L1を介して内部に充填された炭素質吸着剤が流動して流動層1aを形成している向流型移動層反応器1の底部に供給される。反応器1下部では、排ガス中のSOx、DXN類が炭素質吸着剤に吸着除去され、上部では、排ガス中のNOxが、アンモニア供給装置4からラインL2を介して供給されたアンモニアと反応して分解、除去される。炭素質吸着剤は再生器2で再生され、この際に吸着されていたDXN類はSO3により分解される。発生した脱離ガスは、ラインL8、L9を介して一部が排ガスと混合され、再生された炭素質吸着剤は、分離器3を経て反応器1の頂部に戻される。
請求項（抜粋）：
硫黄酸化物、窒素酸化物及びダイオキシン類を含有する排ガスの処理方法であって、向流型移動層反応器の底部に処理対象の前記排ガスを導入して、前記向流型移動層反応器内部に充填され、前記向流型移動層反応器内部を下降する移動層を形成している炭素質吸着剤と接触させて、前記排ガス中の硫黄酸化物及びダイオキシン類を吸着除去する吸着工程と、前記向流型移動層反応器の中間部にアンモニアガスを導入して、前記吸着工程を経た前記排ガスと前記アンモニアガスとを前記炭素質吸着剤を触媒として還元反応させる脱硝工程と、前記向流型移動層反応器の底部から排出された前記炭素質吸着剤を加熱再生した後、前記向流型移動層反応器の上部に供給する再生工程と、を備えていることを特徴とする排ガスの処理方法。
IPC (8件)：
B01D 53/50 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/60 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/94
FI (6件)：
B01D 53/34 123 B ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 132 Z ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 102 F
Fターム (40件)：
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA21 ,  4D002BA04 ,  4D002CA08 ,  4D002DA07 ,  4D002DA41 ,  4D002EA01 ,  4D002EA08 ,  4D002EA13 ,  4D002EA14 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB08 ,  4D002GB20 ,  4D012CA12 ,  4D012CA15 ,  4D012CA16 ,  4D012CC07 ,  4D012CD01 ,  4D012CE03 ,  4D012CF05 ,  4D012CG01 ,  4D012CJ10 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA11 ,  4D048AB02 ,  4D048AC04 ,  4D048BA05X ,  4D048BA13X ,  4D048BD01 ,  4D048CB01 ,  4D048CC27 ,  4D048CD03 ,  4D048DA03 ,  4D048DA08 ,  4D048EA04
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM